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| 徳島文理大学短期大学部 |
| 科目番号 | 00151 | 担当教員名 | 松田 和典 | 単位 | 2単位 |
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| 科目群 | 専門 | 必修・選択 | 選択 | 開講期 | 後期 | 対象年次 | 3年 |
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| 授業概要 |
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| [授業概要］微細加工技術は、ナノテクノロジーでものづくりするための中核となる技術である。微細加工技術の基礎を学ぶ。半導体技術から、特に光を用いる微細加工につき講義する。 [到達目標］クリーン技術、リソグラフィ、ホログラフィなどの光ナノ技術の基本的理解を到達目標とする。 |
| 到達目標 |
| 授業計画 | 授業形態 | 授業時間外学習 | |
|---|---|---|---|
| 【1】 | はじめに | 講義、演習 | |
| 【2】 | 半導体プロセス | ||
| 【3】 | 半導体材料物性と製造法 | ||
| 【4】 | 半導体製造装置とクリーン環境 | ||
| 【5】 | 光リソグラフィ技術 | ||
| 【6】 | 電子線、Ｘ線、イオンビームリソグラフィ技術 | ||
| 【7】 | レジスト材料とエッチング技術 | ||
| 【8】 | 中間試験、中間まとめ | ||
| 【9】 | 光ナノ技術（１） | ||
| 【10】 | 光ナノ技術（２） | ||
| 【11】 | 光ナノ技術（３） | ||
| 【12】 | 光ナノ技術（４） | ||
| 【13】 | 光ナノ技術（５） | ||
| 【14】 | 光ナノ技術（６） | ||
| 【15】 | まとめ | ||
| 評価方法 |
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| 中間試験、期末試験、出席 |
| 教科書 |
| 超微細加工の基礎 麻蒔立男 著、日刊工業新聞社、3,900円 |
| 参考図書 |
| 備考 |
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| 本講義は、千葉・谷川（英）で行う。 予習・復習を行うこと。 |